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Deposizione Sottovuoto: Soluzioni Avanzate per il Trattamento PVD
Emme 3 collabora con Moorfield, azienda all'avanguardia nel settore delle tecnologie di deposizione sottovuoto, per offrire soluzioni innovative nel campo del trattamento PVD (Physical Vapour Deposition).
Gli strumenti di deposizione sottovuoto presenti nel nostro catalogo sono oggi utilizzati sia in ambito industriale che in istituti di ricerca di alto livello. Progettati per supportare la produzione su scala pilota, questi sistemi sono particolarmente indicati per ambienti di Ricerca e Sviluppo (R&D), dove i requisiti tecnici possono variare rapidamente. La loro modularità offre una flessibilità ottimale, permettendo di adattare e personalizzare ogni soluzione alle specifiche esigenze dei clienti, garantendo massima efficienza e prestazioni elevate.
Tecnologie di Deposizione Sottovuoto
La gamma di soluzioni offerte da Emme 3 include diverse piattaforme di partenza che possono poi essere modulate su misura con numerosi set di componenti per la deposizione di metalli, materiali inorganici ed organici. Questa flessibilità consente ai clienti di scegliere la configurazione più adatta alle loro esigenze. I sistemi possono essere realizzati come unità indipendenti, oppure integrati all'interno di una glovebox, ideale per lavorare in ambienti in cui la sensibilità all'aria rappresenta un problema. Questa versatilità rende le soluzioni particolarmente adatte a settori di ricerca e sviluppo che richiedono condizioni atmosferiche controllate e precise.
A seconda dell’applicazione siamo in grado di offrire diverse soluzioni. Tra queste:
Evaporazione termica
Una tecnica semplice ed efficace per la deposizione di film sottili. I materiali vengono riscaldati fino alla temperatura di evaporazione tramite un supporto resistivo riscaldato, permettendo di ottenere rivestimenti di alta qualità su diverse superfici.
Deposizione nella glovebox
I sistemi PVD integrati nella glovebox permettono la deposizione di film sottili in ambienti inerti, evitando il contatto con l'ossigeno o altre sostanze reattive. Questa soluzione è ideale per la deposizione di materiali sensibili all’aria come metalli, organici e inorganici.
Soft-etching nella glovebox
Oltre alle tecnologie di deposizione, proponiamo soluzioni avanzate per la microlavorazione e il trattamento termico. I nostri sistemi di soft-etching permettono un controllo preciso nella preparazione di substrati e dispositivi, particolarmente utili nella ricerca sui materiali 2D come il grafene.
Ricottura (annealing) nella glovebox
Sistema MiniLab per ricottura integrato nella glovebox per il riscaldamento del substrato in condizioni controllate e il trasferimento da/in atmosfere inerti.
Sistemi integrati nella glovebox
Sistemi MiniLab compatibili con glovebox per processi PVD, etching e ricottura.
Evaporazione a fascio elettronico (E-Beam)
Tecnica in cui i materiali vengono riscaldati ad alte temperature mediante bombardamento di elettroni ad alta energia, garantendo una deposizione precisa e controllata di materiali complessi.
Evaporazione a bassa temperatura
Nell’evaporazione a bassa temperatura (LTE), il riscaldamento resistivo viene utilizzato per far evaporare i materiali contenuti in un crogiolo.
Sputtering con magnetron
In questa tecnica, i campi magnetici focalizzano il plasma sulle superfici del materiale bersaglio, espellendo il materiale che si muove attraverso il plasma per rivestire i substrati. Il sistema è adatto per depositare la maggior parte dei materiali (con corretta scelta dell’alimentatore per sputtering).
Trattamento termico
Sistemi completi di trattamento termico e componenti su misura per il trattamento di campioni ad alta temperatura in atmosfere controllate a bassa pressione, inerti e reattive.
Soft-etching
La tecnologia soft-etching è l’unica a fornire il controllo preciso necessario per la preparazione di substrati e dispositivi nella ricerca sui materiali 2D a livello mondiale.
Deposizione chimica da vapore
La gamma nanoCVD consente una produzione rapida ed economica di grafene e nanotubi di carbonio utilizzando metodi scalabili di deposizione chimica da vapore (CVD).