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Agroforestale
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Plasma Cleaner HPT-500HPT-500 è un sistema di trattamento al plasma da banco controllato da microprocessore, ideale per l’attivazione superficiale, la pulizia e la modifica di un’ampia gamma di materiali, tra cui polimeri, metalli, vetro e ceramica.
Disponibile in versioni con ingresso gas singolo o doppio e con collettore di miscelazione gas integrato, il sistema HPT-500 è in grado di gestire un’ampia gamma di gas per trattamenti ottimizzati, tra cui aria, ossigeno, idrogeno, argon, azoto e molti altri.
Plasma Cleaner HPT-300 HPT-300 è un sistema di trattamento al plasma da banco controllato da microprocessore, ideale per l’attivazione superficiale, la pulizia e la modifica di un’ampia gamma di materiali, tra cui polimeri, metalli, vetro e ceramica.
Disponibile in versioni con ingresso gas singolo o doppio e con collettore di miscelazione gas integrato, il sistema HPT-300 è in grado di gestire un’ampia gamma di gas per trattamenti ottimizzati, tra cui aria, ossigeno, idrogeno, argon, azoto e molti altri.
Plasma Cleaner HPT-200 HPT-200 è un sistema di trattamento al plasma da banco controllato da microprocessore, ideale per l’attivazione superficiale, la pulizia e la modifica di un’ampia gamma di materiali, tra cui polimeri, metalli, vetro e ceramica.
Disponibile in versione con ingresso gas fisso, singolo o doppio e con collettore di miscelazione gas integrato, il sistema HPT-200 è in grado di gestire un’ampia gamma di gas per trattamenti ottimizzati, tra cui aria, ossigeno, idrogeno, argon, azoto e molti altri.
SPE-03 È uno strumento compatto ed efficiente per la preparativa per l’analisi di inquinanti semi-volatili in acqua, campioni liquidi di cibo, soluzioni di estrazione da suoli, carburanti e campioni biologici, in grado di gestire sia grandi che piccoli volumi di campione.
Glovebox multistazione La Glovebox multistazione è progettata per offrire soluzioni avanzate in atmosfera inerte, ideali per attività che richiedono un ambiente controllato su larga scala. Ogni stazione è configurata per garantire la massima sicurezza e facilità d’uso, consentendo a più operatori di lavorare contemporaneamente senza compromettere la qualità dell’atmosfera interna.
Evaporatore/Sputter/e-beam MiniLab 080I sistemi MiniLab 080 sono progettati per applicazioni di deposizione sottovuoto che richiedono prestazioni elevate e una grande versatilità. Con una camera alta ideale per le tecniche di evaporazione termica, LTE (Low Temperature Evaporation) ed e-beam, questi sistemi sono perfetti per situazioni in cui sono necessarie distanze di lavoro più lunghe, al fine di garantire un’uniformità ottimale del rivestimento. La configurazione della camera consente angoli di incidenza vicini a 90°, rendendoli ideali per le applicazioni di lift-off.
Evaporatore/Sputter/e-beam MiniLab 060Dotati di una camera a scatola con caricamento frontale, questi strumenti sono ideali per una varietà di tecniche di deposizione, tra cui sputtering magnetron multi-sorgente, evaporazione termica ed evaporazione a fascio elettronico (e-beam).
Evaporatore/Sputter MiniLab 026Gli Evaporatori / Sputter MiniLab 026 sono dei sistemi sottovuoto a pavimento compatti con camere “a conchiglia” di facile accesso. Ideali per la deposizione di metalli, dielettrici e sostanze organiche, i MiniLab 026 supportano diverse tecniche di deposizione, tra cui evaporazione e sputtering.
Dotazioni Ogni sistema MiniLab 026 è dotato di una pompa turbomolecolare, posizionata su una porta ISO100 nella parte posteriore della camera a vuoto. La camera stessa è integrata nel telaio di supporto e può essere configurata con un coperchio in acciaio inossidabile a cilindro (per la classica disposizione a “conchiglia”) o con una campana di vetro, simile ai modelli storici come l’Edwards E306. Questa flessibilità consente di adattare il sistema alle specifiche esigenze del laboratorio.
Tecniche di deposizione I MiniLab 026 offrono una gamma completa di tecniche di deposizione. Tra queste, sono incluse le sorgenti di evaporazione termica e a bassa temperatura, adatte per metalli e materiali organici, nonché le sorgenti di magnetron sputtering per la deposizione di metalli e sostanze inorganiche. Le sorgenti di deposizione sono solitamente montate sulla piastra di base della camera, mentre gli stadi del substrato, sospesi dal tetto della camera, possono ospitare substrati fino a 6 pollici di diametro, con opzioni di riscaldamento, rotazione e regolazione dell’asse Z per ottimizzare il processo di deposizione.
NanoEMIl NanoEM è il primo strumento di rivestimento per microscopia elettronica progettato per offrire funzionalità di livello di ricerca in un formato compatto da banco. Include una camera in acciaio inossidabile, sistemi di pompaggio turbomolecolare, magnetron circolari raffreddati ad acqua per un funzionamento continuo e un alimentatore di precisione fino a 300 W, garantendo prestazioni elevate e affidabilità.
Evaporatore/Sputter/e-beam MiniLab 125I MiniLab 125 sono sistemi di evaporazione sottovuoto progettati per portare la modularità a un livello pilota, offrendo una soluzione avanzata per la deposizione di film sottili metallici, dielettrici e/o organici. Grazie alle ampie camere in acciaio inossidabile, questi sistemi sono ideali per il rivestimento di grandi superfici, con la possibilità di integrare una vasta gamma di tecniche di deposizione. La struttura modulare dei MiniLab 125 consente di personalizzare completamente il sistema in base alle esigenze specifiche del laboratorio, garantendo una grande flessibilità operativa.
Evaporatore NanoPVD-T15AIl nanoPVD-T15A è un evaporatore da banco compatto, progettato per l’evaporazione di metalli e materiali organici con prestazioni elevate ed efficienza ottimale. Ideale per applicazioni di ricerca OLED, OPV e OFET, offre una soluzione avanzata per la deposizione a bassa temperatura (LTE) e l’evaporazione termica.
Sputter/Evaporatore NanoPVD-ST15AIl nanoPVD-ST15A è un sistema compatto da banco che combina tecniche di evaporazione e sputtering all’interno di un’unica camera di processo, offrendo la massima flessibilità di ricerca per applicazioni che richiedono un ingombro ridotto. Il sistema consente una gestione efficiente dei processi di deposizione.