Target per Sputter Attualmente offriamo una gamma di target per sputtering in dimensioni standard, adatti a svariate applicazioni. I target rotondi sono disponibili con diametri da 1″ a 20″, mentre i target rettangolari raggiungono lunghezze superiori ai 2000 mm.
I nostri target per la metallizzazione sono disponibili in diversi gradi di purezza, per rispondere alle vostre esigenze specifiche, con una purezza minima del 99,5% e fino al 99,9999% per alcuni metalli.
Inoltre, offriamo una selezione di target composti tra cui ossidi, nitruri, boruri, solfuri, seleniuri, tellururi, carburi, oltre a miscele cristalline e composite.