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Materiali e metallurgia
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LTS420L’LTS420 è un hotstage ottimizzato per l’analisi isotermica di campioni più grandi, dove sono richiesti riscaldamento e raffreddamento rapidi e una stabilità termica eccellente. Questo sistema versatile è ideale per applicazioni che necessitano di un controllo termico preciso su un’ampia area del campione. L’LTS420 è dotato di un elemento a temperatura controllata con un sensore incorporato vicino alla superficie, garantendo misurazioni accurate della temperatura nell’intervallo da
<-195°C a 420°C, quando utilizzato in combinazione con la pompa di raffreddamento LNP96.
MDSG600 – Sistema geologico motorizzato L’MDSG600 è una versione motorizzata del THMSG600, probabilmente lo stadio di riscaldamento/congelamento geologico più popolare al mondo.
MFS – Stadio di forza modulare Il MFS – Stadio di Forza Modulare è progettato per soddisfare le crescenti necessità di analisi delle proprietà micro e termomeccaniche dei materiali. Perfetto per studiare come i materiali rispondono a nuove condizioni d’uso e per sviluppare materiali innovativi, questo sistema rappresenta una soluzione indispensabile per la ricerca avanzata.
Il MFS è la scelta ideale per chi lavora nella caratterizzazione avanzata dei materiali, contribuendo alla scoperta di soluzioni innovative per le sfide tecnologiche del futuro.
Evaporatore/Sputter MiniLab 026Gli Evaporatori / Sputter MiniLab 026 sono dei sistemi sottovuoto a pavimento compatti con camere “a conchiglia” di facile accesso. Ideali per la deposizione di metalli, dielettrici e sostanze organiche, i MiniLab 026 supportano diverse tecniche di deposizione, tra cui evaporazione e sputtering.
Dotazioni Ogni sistema MiniLab 026 è dotato di una pompa turbomolecolare, posizionata su una porta ISO100 nella parte posteriore della camera a vuoto. La camera stessa è integrata nel telaio di supporto e può essere configurata con un coperchio in acciaio inossidabile a cilindro (per la classica disposizione a “conchiglia”) o con una campana di vetro, simile ai modelli storici come l’Edwards E306. Questa flessibilità consente di adattare il sistema alle specifiche esigenze del laboratorio.
Tecniche di deposizione I MiniLab 026 offrono una gamma completa di tecniche di deposizione. Tra queste, sono incluse le sorgenti di evaporazione termica e a bassa temperatura, adatte per metalli e materiali organici, nonché le sorgenti di magnetron sputtering per la deposizione di metalli e sostanze inorganiche. Le sorgenti di deposizione sono solitamente montate sulla piastra di base della camera, mentre gli stadi del substrato, sospesi dal tetto della camera, possono ospitare substrati fino a 6 pollici di diametro, con opzioni di riscaldamento, rotazione e regolazione dell’asse Z per ottimizzare il processo di deposizione.
Evaporatore/Sputter/e-beam MiniLab 060Dotati di una camera a scatola con caricamento frontale, questi strumenti sono ideali per una varietà di tecniche di deposizione, tra cui sputtering magnetron multi-sorgente, evaporazione termica ed evaporazione a fascio elettronico (e-beam).
Evaporatore/Sputter/e-beam MiniLab 090I sistemi MiniLab 090 offrono una soluzione avanzata per la deposizione PVD (Physical Vapour Deposition). Questi sistemi da pavimento sono l’ideale per la deposizione di metalli, dielettrici e materiali organici in ambienti controllati. Questi sistemi da pavimento sono compatibili con glovebox, per soddisfare le esigenze di applicazioni sensibili all’atmosfera. La camera alta in acciaio inossidabile è progettata per garantire elevate prestazioni nell’evaporazione, con la possibilità di eseguire anche sputtering con magnetron per una maggiore versatilità.
Evaporatore/Sputter/e-beam MiniLab 080I sistemi MiniLab 080 sono progettati per applicazioni di deposizione sottovuoto che richiedono prestazioni elevate e una grande versatilità. Con una camera alta ideale per le tecniche di evaporazione termica, LTE (Low Temperature Evaporation) ed e-beam, questi sistemi sono perfetti per situazioni in cui sono necessarie distanze di lavoro più lunghe, al fine di garantire un’uniformità ottimale del rivestimento. La configurazione della camera consente angoli di incidenza vicini a 90°, rendendoli ideali per le applicazioni di lift-off.
Evaporatore/Sputter/e-beam MiniLab 125I MiniLab 125 sono sistemi di evaporazione sottovuoto progettati per portare la modularità a un livello pilota, offrendo una soluzione avanzata per la deposizione di film sottili metallici, dielettrici e/o organici. Grazie alle ampie camere in acciaio inossidabile, questi sistemi sono ideali per il rivestimento di grandi superfici, con la possibilità di integrare una vasta gamma di tecniche di deposizione. La struttura modulare dei MiniLab 125 consente di personalizzare completamente il sistema in base alle esigenze specifiche del laboratorio, garantendo una grande flessibilità operativa.
NanoEMIl NanoEM è il primo strumento di rivestimento per microscopia elettronica progettato per offrire funzionalità di livello di ricerca in un formato compatto da banco. Include una camera in acciaio inossidabile, sistemi di pompaggio turbomolecolare, magnetron circolari raffreddati ad acqua per un funzionamento continuo e un alimentatore di precisione fino a 300 W, garantendo prestazioni elevate e affidabilità.
Sputter NanoPVD-S10AIl nanoPVD-S10A è un sistema di magnetron sputtering da banco, progettato per la deposizione fisica da vapore (PVD) di metalli e materiali isolanti, come ossidi e nitruri. Compatto e versatile, il sistema offre prestazioni di livello di ricerca grazie a un hardware avanzato, ideale per applicazioni che richiedono precisione e qualità nel rivestimento.
Sputter NanoPVD-S10A-WAIl nanoPVD-S10A-WA è la versione Wide-Area del nanoPVD-S10A, progettata per ampliare le capacità di rivestimento e consentire la deposizione uniforme su substrati di diametro fino a 8″, mantenendo un formato compatto da banco. Questo sistema avanzato supporta lo sputtering di magnetron RF e DC, permettendo la deposizione di metalli e materiali isolanti, ideale per applicazioni di deposizione fisica da vapore (PVD).
Sputter/Evaporatore NanoPVD-ST15AIl nanoPVD-ST15A è un sistema compatto da banco che combina tecniche di evaporazione e sputtering all’interno di un’unica camera di processo, offrendo la massima flessibilità di ricerca per applicazioni che richiedono un ingombro ridotto. Il sistema consente una gestione efficiente dei processi di deposizione.