Evaporatore/Sputter/e-beam MiniLab 090I sistemi MiniLab 090 offrono una soluzione avanzata per la deposizione PVD (Physical Vapour Deposition). Questi sistemi da pavimento sono l’ideale per la deposizione di metalli, dielettrici e materiali organici in ambienti controllati. Questi sistemi da pavimento sono compatibili con glovebox, per soddisfare le esigenze di applicazioni sensibili all’atmosfera. La camera alta in acciaio inossidabile è progettata per garantire elevate prestazioni nell’evaporazione, con la possibilità di eseguire anche sputtering con magnetron per una maggiore versatilità.

I MiniLab 090 supportano una varietà di tecniche di deposizione:

  • Evaporazione e-beam
  • Deposizione glovebox
  • Sistemi integrati con glovebox
  • Deposizione sottovuoto di nanoparticelle
  • Evaporazione termica

La camera di tipo scatolato in acciaio inossidabile è dotata di porte anteriori e posteriori, facilitando l'integrazione con la glovebox. Questo design consente sia l’accesso attraverso il cassetto portaoggetti della glovebox sia un comodo accesso di servizio esterno. I sistemi di pompaggio turbomolecolare inclusi sono standard, garantendo pressioni di base di alto vuoto superiori a 5 × 10⁻⁷ mbar, per un’eccellente qualità della deposizione.

I MiniLab 090 sono estremamente flessibili e possono essere configurati in base al budget e alle applicazioni specifiche dei clienti. Le opzioni vanno da un sistema di evaporazione termica ad azionamento manuale a configurazioni multi-tecnica con controllo di processo completamente automatizzato. Questa modularità permette ai laboratori di personalizzare lo strumento per soddisfare esigenze specifiche di Ricerca e Sviluppo.

  • Design modulare
  • Sportello anteriore scorrevole per il caricamento nel vano portaoggetti
  • Porta posteriore per accesso di servizio
  • Sistemi di pompaggio turbomolecolari o criogenici
  • Pressioni di base <5 × 10-7 mbar
  • Deposizione di metalli, dielettrici e sostanze organiche
  • Substrati di diametro fino a 11”
  • HMI/PC touchscreen per il controllo del sistema
  • Attrezzato per una facile manutenzione
  • Funzioni di sicurezza complete e interblocchi
  • Compatibile con camere bianche
  • Pompaggio: pompe ad alto vuoto turbomolecolari o criogeniche, pompe rotative o a coclea
  • Gas/pressione: controllo manuale o automatico tramite MFC e valvole a farfalla
  • Load-lock: campione singolo e multiplo
  • Stage: rotazione, riscaldamento, raffreddamento, spostamento Z, polarizzazione e planetario
  • Shutter: Sorgente e campione, pneumatiche o motorizzate
  • Funzionamento: Manuale o automatico tramite pannelli frontali, HMI touchscreen o PC
  • Processo: testine del sensore in cristallo di quarzo per il monitoraggio della frequenza/spessore o il controllo del ciclo di feedback

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