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Evaporatore/Sputter/e-beam MiniLab 080I sistemi MiniLab 080 sono progettati per applicazioni di deposizione sottovuoto che richiedono prestazioni elevate e una grande versatilità. Con una camera alta ideale per le tecniche di evaporazione termica, LTE (Low Temperature Evaporation) ed e-beam, questi sistemi sono perfetti per situazioni in cui sono necessarie distanze di lavoro più lunghe, al fine di garantire un’uniformità ottimale del rivestimento. La configurazione della camera consente angoli di incidenza vicini a 90°, rendendoli ideali per le applicazioni di lift-off.
I MiniLab 080 supportano una vasta gamma di tecniche di deposizione:
- Evaporazione e-beam
- Evaporazione a bassa temperatura
- Magnetron Sputtering
- Deposizione sottovuoto di nanoparticelle
- Evaporazione termica
Il MiniLab 080 è dotato di una configurazione standard che include una pompa turbomolecolare, montata su una porta ISO160 nella parte posteriore della camera a vuoto. La camera stessa è posizionata su un telaio a doppio rack, che ospita tutta l’elettronica di controllo e gli alimentatori, garantendo una disposizione compatta e un facile accesso ai componenti. Inoltre, i sistemi possono essere equipaggiati con dispositivi load-lock. Sebbene i MiniLab 080 siano ottimizzati per l'evaporazione termica, LTE ed e-beam, possono essere facilmente adattati per lo sputtering magnetron
I sistemi MiniLab 080 supportano substrati fino a 11 pollici di diametro, con una varietà di opzioni per ottimizzare i risultati. Sono disponibili il riscaldamento del substrato, la rotazione, la polarizzazione e lo spostamento Z, insieme agli stadi planetari e agli shutter della sorgente e del substrato. Il MiniLab 080 può essere configurato in base alle specifiche esigenze del cliente, con opzioni che spaziano da sistemi ad azionamento manuale per l'evaporazione termica, fino a strumenti multi-tecnica con controllo di processo completamente automatizzato. Questa flessibilità consente ai laboratori di personalizzare il sistema in funzione delle loro necessità, garantendo soluzioni ad alte prestazioni per una vasta gamma di applicazioni.
- Design modulare
- Camera a vuoto a forma di D a caricamento frontale
- Sistemi di pompaggio turbomolecolari e criogenici
- Pressioni di base <5 × 10-7 mbar
- Deposizione di metalli, dielettrici e sostanze organiche
- Substrati di diametro fino a 11”
- HMI/PC touchscreen per il controllo del sistema
- Attrezzato per una facile manutenzione
- Funzioni di sicurezza complete e interblocchi
- Compatibile con camere bianche
- Load-lock disponibile
- Pompaggio: pompe ad alto vuoto turbomolecolari o criogeniche, pompe rotative o a coclea
- Gas/pressione: controllo manuale o automatico tramite MFC e valvole a farfalla
- Bloccaggio del carico: campione singolo e multiplo
- Stage: rotazione, riscaldamento, raffreddamento, spostamento Z, polarizzazione e planetari
- Shutter: Sorgente e campione, pneumatiche o motorizzate
- Funzionamento: Manuale o automatico tramite pannelli frontali, HMI touchscreen o PC
- Processo: testine del sensore in cristallo di quarzo per il monitoraggio della frequenza/spessore o il controllo del ciclo di feedback
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