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NanoETCHI sistemi nanoETCH implementano la tecnologia esclusiva di Soft Etching di Moorfield, offrendo un controllo preciso per una vasta gamma di applicazioni di etching al plasma, tra cui il trattamento del grafene, dei materiali 2D e altri materiali sensibili. Progettato in un formato compatto da banco, il nanoETCH è ideale per laboratori di ricerca che necessitano di uno strumento versatile e preciso.
Il nanoETCH è dotato di uno stadio di etching al plasma ad alta uniformità e di un alimentatore RF per la generazione del plasma. Lo strumento è stato originariamente sviluppato in collaborazione con il gruppo di grafene presso il National Graphene Institute dell’Università di Manchester, nel Regno Unito. Questo sviluppo è stato guidato dall’esigenza all’interno della comunità di ricerca di uno strumento di etching che consentisse l’incisione di precisione di materiali 2D sensibili, non disponibile negli strumenti RIE convenzionali.
È oggi disponibile in due configurazioni: una per Soft Etching, adatta a lavorazioni delicate con grafene e materiali 2D, e l'altra per plasma di chimica del fluoro, per applicazioni che richiedono un approccio più aggressivo. Gli strumenti nanoETCH possono ospitare substrati con diametri massimi di 3" (75 mm), 4" (100 mm) o 6" (150 mm), offrendo flessibilità nelle dimensioni dei campioni. Utilizzato in rinomati centri di ricerca come l'ICFO in Spagna, il Cambridge Graphene Centre e il National Graphene Institute nel Regno Unito, il nanoETCH è una scelta comprovata per l'incisione di precisione nei laboratori di tutto il mondo.
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