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Sputter/Evaporatore NanoPVD-ST15AIl nanoPVD-ST15A è un sistema compatto da banco che combina tecniche di evaporazione e sputtering all’interno di un’unica camera di processo, offrendo la massima flessibilità di ricerca per applicazioni che richiedono un ingombro ridotto. Il sistema consente una gestione efficiente dei processi di deposizione.
Il nanoPVD-ST15A supporta diverse tecniche di deposizione, tra cui:
- Evaporazione a bassa temperatura (LTE)
- Evaporazione resistiva standard
- Magnetron sputtering
La camera di processo può ospitare fino a 3 sorgenti di massimo 2 tipi diversi, consentendo la deposizione di metalli, dielettrici, isolanti e sostanze organiche nello stesso sistema e persino all’interno dello stesso ciclo di processo. Il design della camera, con accesso tramite coperchio incernierato, permette di lavorare con substrati fino a 4" (100 mm) di diametro, garantendo un rivestimento uniforme grazie all'altezza ottimizzata della camera.
Dotato di un sistema di pompaggio turbomolecolare per ottenere pressioni di base elevate, il nanoPVD-ST15A offre un controllo automatizzato tramite interfaccia HMI touchscreen, che facilita la gestione del processo e riduce i costi operativi. Il sistema è anche dotato di un set completo di funzioni di sicurezza per garantire un utilizzo affidabile e sicuro.
Con il nanoPVD-ST15A, la flessibilità e le prestazioni della gamma nanoPVD si combinano per offrire una soluzione versatile e di alta qualità per le esigenze di Ricerca e Sviluppo.
- Configurazione da banco
- Magnetron sputtering, evaporazione termica ed evaporazione a bassa temperatura
- Deposizione di metalli, sostanze organiche e dielettrici
- Disposizione flessibile della sorgente
- Fino a 3 gas di processo controllati da MFC
- Opzione di controllo automatico della pressione
- Funzionamento completamente automatico tramite HMI touchscreen
- Substrati fino a 4 pollici di diametro
- Opzione di riscaldamento del campione
- Pressioni di base <5 × 10-7 mbar
- Definisci/salva più ricette di processo
- Attrezzato per una facile manutenzione
- Funzioni di sicurezza complete
- Compatibile con camere bianche
- Prestazioni comprovate
- Pompa per prevuoto a secco
- Sfiato rapido della camera
- Camera SafeSeal
- Rotazione del substrato
- Spostamento Z del substrato
- Shutter della sorgente e/o del substrato
- Riscaldamento del substrato a 500 °C
- Co-deposizione
- Tecnologia SputterSwitch
- Fino a 3 MFC
- Controllo automatico della pressione ad alta risoluzione
- Testine sensore in cristallo di quarzo
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