- Your cart is empty Browse Shop
Sputter NanoPVD-S10AIl nanoPVD-S10A è un sistema di magnetron sputtering da banco, progettato per la deposizione fisica da vapore (PVD) di metalli e materiali isolanti, come ossidi e nitruri. Compatto e versatile, il sistema offre prestazioni di livello di ricerca grazie a un hardware avanzato, ideale per applicazioni che richiedono precisione e qualità nel rivestimento.
Il nanoPVD-S10A supporta fino a 3 magnetron, raffreddati ad acqua per consentire alte potenze e un funzionamento continuo, con la possibilità di utilizzare alimentatori DC e/o RF per diverse tipologie di materiali. I magnetron sono compatibili con obiettivi standard del settore, garantendo flessibilità nella scelta dei materiali di rivestimento. Il sistema è dotato di un sistema di pompaggio turbomolecolare per ridurre al minimo la contaminazione durante il processo. NanoPVD-S10A è semplice da utilizzare, grazie a un'interfaccia HMI touchscreen intuitiva, e presenta bassi costi operativi grazie alla facilità di manutenzione. Le unità sono progettate con una gamma completa di funzioni di sicurezza, rendendole una scelta affidabile per laboratori che necessitano di un sistema di sputtering compatto e performante.
Il sistema offre numerose funzionalità per ottimizzare i processi di deposizione:
- Codeposizione e sputtering reattivo, grazie a un modulo di controllo per gas/pressione che supporta fino a 3 gas di processo.
- Accesso alla camera facilitato da un coperchio incernierato, che consente un rapido caricamento e scaricamento dei campioni.
- Stage per substrati fino a 4" di diametro, ideale per rivestimenti di piccole e medie dimensioni.
- Configurazione da banco
- Sorgenti di magnetron sputtering raffreddate ad acqua per target da 2″ standard del settore
- Gas di processo controllati da MFC
- Alimentatori DC e/o RF
- Funzionamento completamente automatico tramite HMI touchscreen
- Definisci/salva più ricette di processo
- Substrati fino a 4 pollici di diametro
- Pressioni di base <5 × 10-7 mbar
- Attrezzato per una facile manutenzione
- Funzioni di sicurezza complete
- Compatibile con camere bianche
- Prestazioni comprovate
- Pompa per prevuoto a secco
- Sfiato rapido della camera
- Controllo automatico della pressione ad alta risoluzione
- Gas di processo aggiuntivi
- Fase di riscaldamento del substrato a 500 °C
- Rotazione del substrato, Z-shift e shutter
- Fino a 3 sorgenti di magnetron sputtering
- Alimentatori RF e/o DC
- Tecnologia di commutazione alimentazione/sorgente SputterSwitch
- Co-deposizione
- Testa del sensore in cristallo di quarzo
Prodotti correlati
Richiedi informazioni
Compila il modulo per ricevere supporto tecnico: il nostro team prenderà in carico la tua richiesta il prima possibile.