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Evaporatore/Sputter/e-beam MiniLab 060Dotati di una camera a scatola con caricamento frontale, questi strumenti sono ideali per una varietà di tecniche di deposizione, tra cui sputtering magnetron multi-sorgente, evaporazione termica ed evaporazione a fascio elettronico (e-beam).
I MiniLab 060 supportano una vasta gamma di tecniche di deposizione, permettendo ai laboratori di coprire un ampio spettro di applicazioni:
- Evaporazione e-beam
- Evaporazione a bassa temperatura
- Magnetron sputtering
- Deposizione sottovuoto di nanoparticelle
- Evaporazione termica
La configurazione standard dei sistemi MiniLab 060 include una pompa turbomolecolare, montata su una porta ISO160 nella parte posteriore della camera a vuoto, garantendo un'elevata efficienza di pompaggio. La camera a vuoto è montata su un telaio a doppio rack che ospita tutta l'elettronica di controllo e gli alimentatori. Inoltre, i sistemi possono essere dotati di dispositivi load-lock per un accesso rapido e sicuro ai campioni.
Le sorgenti di deposizione sono generalmente montate sulla piastra di base della camera, ma sono disponibili anche configurazioni sputter-down per applicazioni specifiche. I sistemi MiniLab 060 possono essere personalizzati con:
- Sorgenti di evaporazione termica e a bassa temperatura per metalli e materiali organici.
- Catodi di magnetron sputtering per la deposizione di metalli e materiali inorganici.
- Sorgenti e-beam per la maggior parte delle classi di materiali eccetto quelli organici.
Gli stage del substrato, solitamente nella parte superiore della camera, possono ospitare dimensioni del substrato fino a 11 pollici di diametro, con opzioni per il riscaldamento, la rotazione, la polarizzazione e la regolazione dell'asse Z, insieme agli stadi planetari e agli shutter della sorgente e del substrato. Il MiniLab 060 è disponibile in configurazioni che vanno da sistemi a evaporazione termica manuale a strumenti multi-tecnica con controllo di processo completamente automatizzato, offrendo la massima versatilità per soddisfare le diverse esigenze di ricerca e sviluppo. La possibilità di integrare più tecnologie in un unico sistema consente di ottimizzare le procedure di deposizione e di migliorare la qualità dei risultati.
- Design modulare
- Camera sottovuoto scatolata a caricamento frontale
- Sistemi di pompaggio turbomolecolari e criogenici
- Pressioni di base <5 × 10-7 mbar
- Deposizione di metalli, dielettrici e sostanze organiche
- Substrati di diametro fino a 11”.
- HMI/PC touchscreen per il controllo del sistema
- Attrezzato per una facile manutenzione
- Funzioni di sicurezza complete e interblocch
- Compatibile con camere bianche
- Load-lock compatibile
- Pompaggio: pompe ad alto vuoto turbomolecolari o criogeniche, pompe rotative o a coclea.
- Gas/pressione: controllo manuale o automatico tramite MFC e valvole a farfalla.
- Load-lock: campione singolo e multiplo.
- Stage: rotazione, riscaldamento, raffreddamento, spostamento Z, polarizzazione e planetario.
- Shutter: Sorgente e substrato, pneumatiche o motorizzate.
- Funzionamento: Manuale o automatico tramite pannelli frontali, HMI touchscreen o PC.
- Processo: testine del sensore in cristallo di quarzo per il monitoraggio della frequenza/spessore o il controllo del ciclo di feedback.
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