Applicazione per SEM ad alta risoluzione

Il CCU-010 è un sistema di sputtering ad alto vuoto e di deposizione di carbonio progettato per soddisfare i requisiti più stringenti nella preparazione di campioni. Componenti di qualità premium e un design ottimizzato garantiscono prestazioni eccellenti in applicazioni ad altissima risoluzione utilizzando ad essempio SEM FEG. Si tratta di un coater compatto, completamente automatico, per sputtering e/o deposizione di carbonio.

Il sistema di pompaggio integrato dell’unità base CCU-010 HV è completamente privo di olio e comprende una pompa turbomolecolare ad alte prestazioni e una pompa di supporto a membrana, entrambe collocate internamente, riducendo significativamente l’ingombro complessivo (assenza di pompe rotative ingombranti e tubazioni di vuoto esterne). Pur essendo di dimensioni contenute, il dispositivo offre elevate prestazioni. L’impiego di un sistema di pompaggio privo di olio minimizza contaminazioni e difetti nei film depositati. Inoltre, il dispositivo può essere mantenuto in condizioni di vuoto anche durante la fase di spegnimento, proteggendo efficacemente il sistema da polveri e umidità, assicurando così tempi di pompaggio rapidi e condizioni di vuoto ottimali per deposizioni di alta qualità.

Dispositivo multifunzionale e modulare
Un coater per sputtering e/o deposizione di carbonio integrato con opzioni per trattamenti plasma? Il sistema da banco CCU-010 consente questa versatilità. La semplice sostituzione della testina di processo permette di configurare rapidamente l’unità per le diverse applicazioni richieste. L’apparecchiatura può essere adattata alle specifiche esigenze operative o aggiornata successivamente per ampliarne le funzionalità. Un monitor di spessore film posizionato nelle immediate vicinanze del campione è fornito di serie, garantendo un controllo preciso dello spessore di film metallici e carboniosi durante la deposizione.

Ottimizzazione dei tempi di processo
L’impiego di materiali e componenti di elevata qualità, insieme a soluzioni tecnologiche innovative, permette di ottenere tempi di processo significativamente ridotti. Le ricette di deposizione possono essere create e gestite tramite un’interfaccia utente avanzata, mentre la modalità automatica assicura riproducibilità e affidabilità nella produzione di film sottili.

Efficienza nel consumo di gas
Il sistema di controllo gas, ottimizzato per operare in alto vuoto, consente una riduzione significativa del consumo del gas di processo. Grazie a un diametro target di 54 mm e a un’elevata efficienza di utilizzo del target, si ottimizza il consumo di materiali di consumo.

Design compatto e ingegnerizzato per l’uso in laboratorio

L’unità è progettata per ridurre al minimo l’ingombro e ottimizzare l’uso dello spazio in laboratorio. Il peso ridotto contribuisce a contenere i costi di trasporto. Le connessioni rapide standard ISO-KF a flangia piccola assicurano un’integrazione semplice e sicura con impianti di vuoto esistenti.

Facilità di installazione e manutenzione
Il concetto plug-and-play consente un avvio immediato senza necessità di interventi tecnici complessi: è sufficiente collegare alimentazione elettrica e gas di processo. L’interfaccia di servizio USB integrata permette al tecnico di effettuare diagnostiche rapide e precise. La struttura modulare facilita la sostituzione mirata di componenti guasti, riducendo tempi di fermo macchina.

Compact Coating Unit CCU-010 HV
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