I sistemi MiniLab 080 offrono camere alte ideali per tecniche di evaporazione termica, LTE ed e-beam che richiedono distanze di lavoro più lunghe per un’uniformità ottimale. 

Tecniche 

E-beam evaporazione | Evaporazione a bassa temperatura | Magnetron Sputtering | Deposizione sottovuoto di nanoparticelle | Evaporazione termica 

La configurazione standard del MiniLab 080 include una pompa turbomolecolare posizionata su una porta ISO160 nella parte posteriore della camera a vuoto. La camera a vuoto si trova su un telaio a doppio rack che contiene tutta l’elettronica di controllo del sistema e gli alimentatori. I sistemi MiniLab 080 sono disponibili con dispositivi load-lock. 

Gli strumenti sono ideali per le tecniche di evaporazione in cui sono richieste lunghe distanze di lavoro per la migliore uniformità e dove gli angoli di incidenza dell’evaporazione vicini a 90° consentono risultati ottimali per le applicazioni di lift-off. Tuttavia, oltre all’evaporazione termica, LTE ed e-beam, gli strumenti possono anche essere adattati per lo sputtering di magnetron (comunemente come sistema multi-tecnica). 

Gli stagedel substrato, solitamente nella parte superiore della camera, possono ospitare dimensioni del substrato fino a 11 pollici di diametro. Sono disponibili il riscaldamento del substrato, la rotazione, la polarizzazione e lo spostamento Z, insieme agli stadi planetari e agli shutter della sorgente e del substrato. Le configurazioni vanno da un sistema di evaporazione termica ad azionamento manuale fino a uno strumento multi-tecnica con controllo di processo completamente automatizzato. 

Caratteristiche principali 

• Design modulare 
• Camera a vuoto a forma di D a caricamento frontale 
• Sistemi di pompaggio turbomolecolari e criogenici 
• Pressioni di base <5 × 10-7 mbar 
• Deposizione di metalli, dielettrici e sostanze organiche 
• Substrati di diametro fino a 11”. 
• HMI/PC touchscreen per il controllo del sistema 
• Attrezzato per una facile manutenzione 
• Funzioni di sicurezza complete e interblocchi 
• Compatibile con camere bianche 
• Load-lock disponibile 

Opzioni 

• Pompaggio: pompe ad alto vuoto turbomolecolari o criogeniche, pompe rotative o a coclea 
• Gas/pressione: controllo manuale o automatico tramite MFC e valvole a farfalla 
• Bloccaggio del carico: campione singolo e multiplo 
• Stage: rotazione, riscaldamento, raffreddamento, spostamento Z, polarizzazione e planetario 
• Shutter: Sorgente e campione, pneumatiche o motorizzate 
• Funzionamento: Manuale o automatico tramite pannelli frontali, HMI touchscreen o PC 
• Processo: testine del sensore in cristallo di quarzo per il monitoraggio della frequenza/spessore o il controllo del ciclo di feedback